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鋁(lǚ)摻雜的(de)矽半導體(tǐ)中(zhōng)载(zài)流子含量(liàng)的(de)測定(dìng)方(fāng)法(fǎ)

信(xìn)息来(lái)源：武漢格瑞斯新(xīn)能(néng)源科技有限公(gōng)司 發(fà)布(bù)时(shí)間(jiān)：2018-04-14 14:47 浏覽次(cì)數：次(cì)

1.Mott-Schottky曲(qū)線(xiàn)法(fǎ)
CS系(xì)列電(diàn)化(huà)學(xué)工作站可(kě)用(yòng)于(yú)半導體(tǐ)或(huò)鈍化(huà)膜Mott-Schottky图(tú)的(de)測試。通(tòng)过在(zài)不(bù)同直(zhí)流電(diàn)位(wèi)下分(fēn)别疊加一(yī)固定(dìng)幅值和(hé)固定(dìng)頻率的(de)交流擾动信(xìn)号(hào)，測得不(bù)同直(zhí)流電(diàn)位(wèi)下的(de)阻抗值，並(bìng)根(gēn)據(jù)阻抗虛部(bù)来(lái)計(jì)算耗盡區(qū)電(diàn)容Csc ,最(zuì)後(hòu)按公(gōng)式（1或(huò)2）計(jì)算並(bìng)繪制Mott-Schottky图(tú),並(bìng)據(jù)此(cǐ)計(jì)算半導體(tǐ)或(huò)鈍化(huà)膜材料中(zhōng)的(de)载(zài)流子濃度，确定(dìng)材料半導體(tǐ)特征。
Mott-Schottky 公(gōng)式：

式中(zhōng), V_fb为平带電(diàn)位(wèi)(flat band potential), N_d和(hé) N_a分(fēn)别是(shì)施主(zhǔ)(donor)和(hé)受主(zhǔ)(accepter)载(zài)流子濃度, ε为相对(duì)介電(diàn)常數, ε0为真(zhēn)空(kōng)介電(diàn)常數, A 为電(diàn)极(jí)表(biǎo)面(miàn)積, k为Boltaman常數, T为絕对(duì)温(wēn)度, e为電(diàn)荷電(diàn)量(liàng)。
C_sc可(kě)根(gēn)據(jù)公(gōng)式（3）計(jì)算

(3)

其(qí)中(zhōng)Z” 为阻抗虛部(bù)， f为正(zhèng)弦波(bō)頻率。
阻抗-電(diàn)位(wèi)掃描介紹
将電(diàn)解(jiě)池裝(zhuāng)置連(lián)接到(dào)CS350電(diàn)化(huà)學(xué)工作站上(shàng)，從corrTest软(ruǎn)件(jiàn)中(zhōng)選擇“P阻抗-電(diàn)位(wèi)掃描”測試方(fāng)法(fǎ)，並(bìng)按图(tú)1所(suǒ)示進(jìn)行參數設置(僅供參考)：

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